澳大利亞研制納米電子束曝光系統

據澳大利亞莫納什大學網站報道，澳大利亞研究人員正在研制世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統（EBL）。該系統可標記納米級的物體，還可在比人發直徑小1萬倍的粒子上進行書寫或者蝕刻。 　　電子束曝光技術可直接刻畫精細的圖案，是實驗室制作微小納米電子元件的最佳選擇。這款耗資數百萬美元的曝光系統將在澳大利亞亮相，并有能力以很高的速度和定位精度制出超高分辨率的納米圖形。該系統將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心（MCN）內，并將于明年3月正式揭幕。
　　MCN的臨時負責人阿彼得·凱恩博士表示，該設備將幫助科學家和工程師發展下一代微技術，在面積小于10納米的物體表面上實現文字和符號的書寫和蝕刻。此外，這種強大的技術正越來越多地應用于鈔票詐騙防偽、微流體設備制造和X射線光學元件的研制中，還可以支持澳大利亞同步加速器的工作。
　　凱恩說：“這對澳大利亞科學家研制最新的納米儀器十分重要，其具有無限的潛力，目前已被用于油漆、汽車和門窗的凈化處理，甚至對泳衣也能進行改進。而MCN與澳大利亞同步加速器相鄰，也能吸引更多的國際研究團隊的目光。”
　　MCN的目標是成為澳大利亞開放的、多范圍的、多學科的微納米制造中心。該中心將支持環境傳感器、醫療診斷設備、微型納米制動器的研制，以及新型能源和生物等領域的研究和模型繪制。除電子束曝光系統外，MCN中還包含了高分辨率雙束型聚焦離子束顯微鏡、光學和納米壓印光刻儀、深反應離子蝕刻儀和共聚焦顯微鏡等眾多設備。
　　凱恩認為：能夠介入這種技術使我們的科學家十分興奮，它可以確保我們在未來十年內在工程技術前沿領域的眾多方面保持領先地位，也將成為科學家在納米范圍內取得更大成就的重要基點。