SJ/T 10274-91掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)測(cè)試方法

【 標(biāo)準(zhǔn)編號(hào) 】 SJ/T 10274-91
【 標(biāo)準(zhǔn)名稱 】 掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)測(cè)試方法  
【 英文名稱 】 Test methods of mask alignment and exposure system
【 發(fā)布單位 】 中華人民共和國(guó)機(jī)械電子工業(yè)部
【 批準(zhǔn)單位 】 中華人民共和國(guó)機(jī)械電子工業(yè)部
【 發(fā)布日期 】 1991-11-12
【 實(shí)施日期 】 1992-1-1
【 開本頁(yè)數(shù) 】 10P
【 引用標(biāo)準(zhǔn) 】 GB 11481; GB 7237; GB 4857.9; GB 5398
【 起草單位 】 國(guó)營(yíng)南光機(jī)器廠
【 起 草 人 】 唐志宇; 武又文