SJ/T 10627-1995通過測量間隙氧含量的減少表征硅片氧沉淀特性*

【 標準編號 】 SJ/T 10627-1995
【 標準名稱 】 通過測量間隙氧含量的減少表征硅片氧沉淀特性的方法  
【 英文名稱 】 Test methods for oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
【 發布單位 】 中華人民共和國電子工業部
【 批準單位 】 中華人民共和國電子工業部
【 發布日期 】 1995-4-22
【 實施日期 】 1995-10-1
【 開本頁數 】 5P
【 引用標準 】 GB/T 1557; GB/T 14143
【 起草單位 】 電子工業部第46研究所
【 起 草 人 】 何秀坤; 汝瓊娜; 李光平; 段曙光