2m比長儀納米級高精度刻線自動瞄準系統

摘要：闡述了2m比長儀刻線瞄準系統的組成,對其光電顯微刻線成像的原理及刻線圖像信號進行了分析,根據其刻線信號的特點,研究了其高精度的刻線信號自動處理系統,該系統基于FPGA現場可編程電路技術,實現刻線信號的自動門控觸發、自動濾除虛假刻線信號,配合計算機信號自動處理軟件可以實現刻線測量的高精度自動瞄準.最后對2m比長儀的瞄準精度進行了測試實驗,實驗結果表明,測量金屬標準線紋尺時,2m比長儀單次測量刻線瞄準精度優于10nm(1σ).
作者：         葉孝佑[1]     高宏堂[1]     鄒鄰丁[1]     張曉[2]     甘曉川[1]     孫雙花[1]     常海濤[3]     沈雪萍[1]     陳黎云[1]
作者單位：        
中國計量科學研究院,北京,100013
浙江計量科學研究院,浙江,杭州,310013
北京航空航天大學,北京,100191