求膜片厚度分析儀校準

求以下型號膜片厚度分析儀校準方法，或者那里可以校準，謝謝！

Filmetrics光學膜厚測量儀的詳細介紹
其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測量精度高達1埃，測量穩定性高達0.7埃，測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選。可應用領域包括：生物醫學（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

通過Filmetrics膜厚測量儀最新反射式光譜測量技術,最多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用廣泛，例如 :
半導體工業 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業 : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護膜。
光電鍍膜應用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。

極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點，Filmetrics提供以下型號以供選擇:

F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區 至1700nm近紅外線區)為任意攜帶型，可以實現反射、膜厚、n、k值測量。

F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭，同時測量三個樣品，具紫外線區或標準波長可供選擇。

F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供最小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。

F50:這型號配備全自動XY工作臺，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。

F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭，使用Filmetrics最新的顏色編碼厚度測量法（CTM），把設備的測量范圍極大的拓展至3.5mm。

F10-RT：在F20實現反射率跟穿透率的同時測量，特殊光源設計特別適用于透明基底樣品的測量。

PARTS：在垂直入射光源基礎上增加70o光源，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。
                                                                                                                                       

高級膜厚測量儀系統F20

使用F20高級分光計系統可以簡便快速的測量厚度和光學參數（n和k）。您可以在幾秒鐘內通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數。任何具備基本電腦技術的人都能在幾分鐘內將整個桌面系統組裝起來。

F20包括所有測量需要的部件：分光計、光源、光纖導線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。

膜層實例
幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括：
sio2（二氧化硅）           sinx（氮化硅）                            dlc（類金剛石碳）
photoresist（光刻膠）     polyer layers（高分子聚合物層）      polymide（聚酰亞胺）
polysilicon（多晶硅）      amorphous silicon（非晶硅）

基底實例：
對于厚度測量，大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進行處理使之不能反射。
包括：
silicon（硅）            glass（玻璃）               aluminum（鋁）
gaas（砷化鎵）        steel（鋼）                 polycarbonate（聚碳酸脂）
polymer films（高分子聚合物膜）

應用
半導體制造
液晶顯示器
光學鍍膜
photoresist光刻膠
oxides氧化物
nitrides氮化物
cell gaps液晶間隙
polyimide聚酰亞胺
ito納米銦錫金屬氧化物
hardness coatings硬鍍膜
anti-reflection coatings增透鍍膜
filters濾光

f20 使用高級仿真活動來分析光譜反射率數據。

標準配置和規格

F20-UV
F20
F20-NIR
F20-EXR
只測試厚度
1nm ~ 40μm
15nm ~ 100μm
100nm ~ 250μm
15nm ~ 250μm
測試厚度和n&k值
50nm and up
100nm and up
300nm and up
100nm and up
波長范圍
200-1100nm
380-1100nm
950-1700nm
380-1700nm
準確度
大于 0.4％ 或 2nm
精度
1A
2A
1A
穩定性
0.7A
1.2A
0.7A
光斑大小
20μm至1.5mm可選
樣品大小
1mm至300mm 及更大
探測器類型
1250-元素硅陣列
512-元素 砷化銦鎵
1000-元素 硅 & 512-砷化銦鎵陣列
光源
鎢鹵素燈，氚燈
電腦要求
60mb 硬盤空間
50mb 空閑內存
usb接口
電源要求
100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a

選配以下鏡頭，就可在F20的基礎上升級為新一代的F70膜厚測量儀。
鏡頭配件
厚度范圍
(Index=1.5)
精度
光斑大小
UPG-F70-SR-KIT
15 nm-50 μm
0.1 nm
標配1.5 mm (可選配下至20 μm)
LA-CTM-VIS-1mm
50 μm-1.5 mm
0.15 μm
5 μm
LA-CTM-VIS-2.4mm
150 μm-3.5 mm
0.1 μm
10 μm

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