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ASTM F 2113-2001 薄膜電子設備用高純度金屬濺涂靶雜...

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兌水 發(fā)表于 2009-12-6 16:40:27 | 只看該作者回帖獎勵

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F2113-01e1 Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

ASTM, 電子, 薄膜, 設備, 金屬

ASTM F 2113-2001.pdf

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