SJ/T 10584-94微電子學(xué)光掩蔽技術(shù)術(shù)語

【 標(biāo)準(zhǔn)編號(hào) 】 SJ/T 10584-94
【 標(biāo)準(zhǔn)名稱 】 微電子學(xué)光掩蔽技術(shù)術(shù)語  
【 英文名稱 】 Terms of photomasking technology for microelectronics
【 發(fā)布單位 】 中華人民共和國(guó)電子工業(yè)部
【 批準(zhǔn)單位 】 中華人民共和國(guó)電子工業(yè)部
【 發(fā)布日期 】 1994-8-8
【 實(shí)施日期 】 1994-12-1
【 開本頁(yè)數(shù) 】 29P
【 起草單位 】 電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所; 韶光電工廠
【 起 草 人 】 吳保華; 于向東; 陣寶欽; 馮朝斌; 陳華龍; 廖溫初