計量使工藝得以實現

計量使工藝得以實現
發布時間:2007-11-23

      計量并不廉價——計量專家的費用和計量工具的成本就不低——但如果是以生產和成品率為目標的話，那么它絕對算得上價廉物美。
　　多年以來，許多業內人士都認為計量是一項非增值的花費，但是隨著在器件制造流程中計量重要性的不斷提高，它正在快速地成為幫助獲取巨額收入的關鍵因素之一。在一篇研究內容廣泛全面的研討會論文中，對這種重心轉移背后的原因進行了明確的描述，對于那些在各類檢查、測量和測試應用中生產或使用計量的從業者來說，這篇論文應該被視為最重要的參考資料之一。
　　通過對“增值”計量的討論，論文的第一作者、國際半導體技術制造協會（ISMI）的Benjamin Bunday，與來自ISMI和Sematech、Freescale、Advanced Micro Devices、Intel、Spansion、Texas Instruments和IBM的合作者們一起，解釋了為什么將計量看成是一項非增值花費的傳統“思維”，已經成為一種誤導性的危險論斷。正如Bunday所說：“在當前最新工藝出現中的各種重要的技術趨勢，比如光學鄰近修正（OPC）、可制造性設計（DFM）和先進工藝控制（APC）等，實際上都基于在 誤差和精度方面，可以對計量進行精細的調整這個前提假設。”
　　Bunday和合著者們解釋了為什么在特征尺寸計量和套刻精度、薄膜與缺陷計量領域內處處都可以找到這樣的例證。以APC為例，他們展示了這個全新的概念是如何使計量在最終產品質量中扮演主要角色的：“過去，計量監測工藝流程的結果，而且主要用途是出現異常偏差后進行返工和‘在事后’對工藝進行調整。APC將它推到一個新的水平，通過‘過程中修正’來不斷地將工藝向目標引導。”這篇論文分析了典型的柵層APC循環，其中計量數據被反饋以用于調整光刻設置，同時又被前饋來調整基于光刻結果的柵刻蝕；對快速熱退火注入步驟進行精細的調整，以進一步修正柵刻蝕步驟中可能出現的任何異常偏差。