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ASTM F 1709-1997 電子薄膜用的高純度鈦濺射靶的技術(shù)規(guī)范

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兌水 發(fā)表于 2009-12-2 16:55:03 | 只看該作者回帖獎勵

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F1709-97(2002) Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

ASTM, 技術(shù), 濺射, 電子, 薄膜

ASTM F 1709-1997.pdf

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