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標(biāo)題: GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件 [打印本頁]

作者: woshi_tjy 時(shí)間: 2008-10-24 11:33
標(biāo)題: GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件
【標(biāo)準(zhǔn)編號】 GB/T 18682-2002
【標(biāo)準(zhǔn)名稱】物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件
【英文名稱】 Specifications of physical vapour deposition TiN films
【發(fā)布單位】中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
【發(fā)布日期】 2002-3-10
【實(shí)施日期】 2002-8-1
【開本頁數(shù) 】 23P
【引用標(biāo)準(zhǔn) 】 GB 191; GB/T 3620.1; B/T 3620.2; GB/T 4698; GB/T 5168; GB/T 5193; GB/T 6070; GB/T 8180; GB/T 11164-1999; GB/T 13384; GB/T 15827; JB/T 6075; JB/T 7506; JB/T 7673; JB/T 7705; JB/T 8554; JB/T 53021
【起草單位】武漢材料保護(hù)研究所; 鋼鐵研究總院; 中科院力學(xué)研究所; 中國航科集團(tuán)公司五一一研究所; 成都工具研究所; 中科院蘭州化學(xué)物理研究所; 蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司; 長沙科航新型表面技術(shù)研究所
【起草人】凌國偉; 李健; 倪瀚; 黃濟(jì)群; 曲學(xué)基; 紀(jì)曉春; 秦襄培

BZ002008843.PDF

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