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計(jì)量論壇

標(biāo)題: 求膜片厚度分析儀校準(zhǔn) [打印本頁]

作者: rybmsi 時(shí)間: 2011-12-13 10:10
標(biāo)題: 求膜片厚度分析儀校準(zhǔn)
求以下型號膜片厚度分析儀校準(zhǔn)方法，或者那里可以校準(zhǔn)，謝謝！

Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀的詳細(xì)介紹
其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測量精度高達(dá)1埃，測量穩(wěn)定性高達(dá)0.7埃，測量時(shí)間只需一到二秒, 并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選。可應(yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

通過Filmetrics膜厚測量儀最新反射式光譜測量技術(shù),最多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛，例如 :
半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護(hù)膜。
光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。

極易操作、快速、準(zhǔn)確、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn)，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:

F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型，可以實(shí)現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。

F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口。可實(shí)時(shí)監(jiān)控長晶速度、實(shí)時(shí)提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時(shí)間間距。更可加裝至三個(gè)探頭，同時(shí)測量三個(gè)樣品，具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。

F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供最小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。

F50:這型號配備全自動(dòng)XY工作臺(tái)，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。

F70:僅通過在F20基本平臺(tái)上增加鏡頭，使用Filmetrics最新的顏色編碼厚度測量法（CTM），把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至3.5mm。

F10-RT：在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測量，特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測量。

PARTS：在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。


高級膜厚測量儀系統(tǒng)F20

使用F20高級分光計(jì)系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)（n和k）。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來。

F20包括所有測量需要的部件：分光計(jì)、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集合和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。

膜層實(shí)例
幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括：
sio2（二氧化硅）          sinx（氮化硅）                         dlc（類金剛石碳）
photoresist（光刻膠）    polyer layers（高分子聚合物層）    polymide（聚酰亞胺）
polysilicon（多晶硅）    amorphous silicon（非晶硅）

基底實(shí)例：
對于厚度測量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學(xué)常數(shù)測量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進(jìn)行處理使之不能反射。
包括：
silicon（硅）          glass（玻璃）             aluminum（鋁）
gaas（砷化鎵）       steel（鋼）                polycarbonate（聚碳酸脂）
polymer films（高分子聚合物膜）

應(yīng)用
半導(dǎo)體制造
液晶顯示器
光學(xué)鍍膜
photoresist光刻膠
oxides氧化物
nitrides氮化物
cell gaps液晶間隙
polyimide聚酰亞胺
ito納米銦錫金屬氧化物
hardness coatings硬鍍膜
anti-reflection coatings增透鍍膜
filters濾光

f20 使用高級仿真活動(dòng)來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。

標(biāo)準(zhǔn)配置和規(guī)格

F20-UV
F20
F20-NIR
F20-EXR
只測試厚度
1nm ~ 40μm
15nm ~ 100μm
100nm ~ 250μm
15nm ~ 250μm
測試厚度和n&k值
50nm and up
100nm and up
300nm and up
100nm and up
波長范圍
200-1100nm
380-1100nm
950-1700nm
380-1700nm
準(zhǔn)確度
大于 0.4％或 2nm
精度
1A
2A
1A
穩(wěn)定性
0.7A
1.2A
0.7A
光斑大小
20μm至1.5mm可選
樣品大小
1mm至300mm 及更大
探測器類型
1250-元素硅陣列
512-元素砷化銦鎵
1000-元素硅 & 512-砷化銦鎵陣列
光源
鎢鹵素?zé)簦盁?br /> 電腦要求
60mb 硬盤空間
50mb 空閑內(nèi)存
usb接口
電源要求
100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a

選配以下鏡頭，就可在F20的基礎(chǔ)上升級為新一代的F70膜厚測量儀。
鏡頭配件
厚度范圍
(Index=1.5)
精度
光斑大小
UPG-F70-SR-KIT
15 nm-50 μm
0.1 nm
標(biāo)配1.5 mm (可選配下至20 μm)
LA-CTM-VIS-1mm
50 μm-1.5 mm
0.15 μm
5 μm
LA-CTM-VIS-2.4mm
150 μm-3.5 mm
0.1 μm
10 μm

絕對不是廣告哈！！

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