標(biāo)題: ASTM F 1709-1997 電子薄膜用的高純度鈦濺射靶的技術(shù)規(guī)范 [打印本頁] 作者: 兌水 時(shí)間: 2009-12-2 16:55 標(biāo)題: ASTM F 1709-1997 電子薄膜用的高純度鈦濺射靶的技術(shù)規(guī)范 F1709-97(2002) Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications