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標題: ASTM F 996-1998 利用次臨界伏安特性測定由于氧化空穴和界... [打印本頁]

作者: 兌水 時間: 2009-11-28 07:32
標題: ASTM F 996-1998 利用次臨界伏安特性測定由于氧化空穴和界...
F996-98(2003) Standard Test Method for Separating an Ionizing Radiation-Induced MOSFET Threshold Voltage Shift Into Components Due to Oxide Trapped Holes and Interface States Using the Subthreshold Current-Voltage Characteristics

ASTM F 996-1998.pdf

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